تاثیر سیلیکون و نانودی اکسید سیلیکون بر فاکتورهای رشدی، میزان اسمولیت ها و محتوای یونی گیاه زعفران(Crocus Sativus L.) تحت تنش شوری

نویسندگان

1 دانشگاه ارومیه

2 دانشگاه ارومیه

doi
چکیده

زعفران با نام عمومی (Saffron) و نام علمی (Crocus sativus L.) یکی از قدیمی‌ترین گیاهان دارویی است که همواره مورد توجه بوده و عملکرد آن به عوامل مختلفی وابسته است. هدف از این مطالعه بررسی اثر تنش شوری بر گیاه زعفران و نقش محلول‌پاشی سیلیکون و نانو دی‌اکسید سیلیکون در کاهش اثر شوری بود. برای این منظور گیاهان زعفران با سطوح مختلف شوری (0، 75 و 150 میلی‌مولار کلرید سدیم) و سیلیکون و نانو دی‌اکسید سیلیکون (5/0 و 1 میلی‌مولار) در 4 تکرار به مدت 3 ماه تیمار شدند. بعد از برداشت متغییرهای رشدی و بیوشیمیایی مورد ارزیابی قرار گرفتند. نتایج نشان داد که شوری موجب کاهش طول و وزن خشک اندام هوایی و زیرزمینی، میزان پتاسیم، نسبت K+/Na+ و RWC شد. علاوه‌بر این، شوری مرگ سلولی، میزان پرولین و گلایسین بتایین، محتوای یون‌های سدیم و کلر را در گیاهان تحت تیمار افزایش داد. اعمال سیلیکون و نانو دی‌اکسید سیلیکون موجب بهبود فاکتورهای رشدی، میزان پتاسیم، نسبت K+/Na+ و RWC شد. نتایج همچنین نشان داد که اعمال سیلیکون و نانو سیلیکون موجب کاهش اسمولیت‌های سازگار و یون‌های سدیم و کلر شد. می‌توان نتیجه گرفت که سیلیکون و نانو دی‌اکسید سیلیکون، به‌ویژه نانو ذره دی‌اکسید سیلیکون، توانایی کاهش سمیت حاصل از تنش شوری را در زعفران دارند و می‌توانند در افزایش مقاومت گیاهان زعفران در برابر تنش شوری نقش مهمی داشته باشند.