نقش تاریخ کاشت، مصرف قارچکش بنومیل و پتاسیم سیلیکات در افزایش کیفیت بذر سویا رقم ‘ویلیامز’
نویسندگان
1 کارشناس ارشد گروه زراعت، دانشکدۀ تولید گیاهی، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی گرگان، گرگان، ایران
2 مربی گروه گیاهپزشکی، دانشکدۀ تولید گیاهی، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی گرگان، گرگان، ایران
3 استادیار گروه زراعت، دانشکدۀ تولید گیاهی، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی گرگان، گرگان، ایران
4 کارشناس ارشد گروه زراعت، دانشکدۀ تولید گیاهی، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی گرگان، گرگان، ایران
5 استادیار گروه زراعت، دانشکدۀ تولید گیاهی، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی گرگان، گرگان، ایران
doi
10.22059/jci.2015.54794چکیده
تحقیق حاضر با هدف بررسی تأثیر تاریخ کاشت، محلولپاشی قارچکش بنومیل و پتاسیم سیلیکات در بهبود کیفیت بذر سویا (رقم ‘ویلیامز’) در سالهای 91-1390 در گرگان انجام گرفت. تیمارهای آزمایش در سال اول شامل تاریخ کاشت (31 فروردین، 23 اردیبهشت، 13 خرداد، 8 تیر و 31 تیر) و مصرف قارچکش بنومیل در دو مرحلۀ R3 و R6 بود، و در سال دوم شامل تاریخ کاشت (11 اردیبهشت و 15 تیر)، مصرف قارچکش بنومیل، مصرف سیلیکون (Si) و سیلیکون + بنومیل بود. سیلیکون بهصورت پتاسیم سیلیکات محلول در آب در سه مرحله (V6، R1 و R4) و با غلظت 40 گرم در لیتر بر روی برگها محلولپاشی شد. نتایج نشان داد که افزایش دمای هوا طی دورۀ پر شدن بذر (R5-R7) در تاریخ کاشتهای زودهنگام مهمترین عامل کاهش کیفیت بذر است. همچنین تودههای بذری آلوده به Phomopsis sp. و Nigrospora sp. همبستگی منفی معناداری با جوانهزنی و قدرت بذر داشتند. تأخیر در کاشت از طریق کاهش دما طی دورۀ پر شدن بذر و نیز کاهش آلودگی به این دو بیمارگر سبب افزایش کیفیت بذر شد. از طرف دیگر، مصرف قارچکش بنومیل و پتاسیم سیلیکات با کاهش آلودگیهای قارچی در تودههای بذری و افزایش جوانهزنی و قدرت بذر موجب بهبود کیفیت بذر شدند. بنابراین، تأخیر در کاشت رقم زودرس ویلیامز، محلولپاشی پتاسیم سیلیکات و نیز قارچکش بنومیل در مراحل زایشی را میتوان بهعنوان راهکارهایی بهمنظور افزایش کیفیت بذر این رقم به کشاورزان و تولیدکنندگان بذر در گرگان توصیه کرد.