بررسی اثر محلول‌پاشی سالیسیلیک اسید بر برخی خصوصیات بیوشیمیایی دو رقم کلزا (Brassica napus L.) تحت شرایط تنش سرما

نویسندگان

1 استادیار دانشکده کشاورزی دانشگاه تربیت مدرس، تهران

2 دانشجوی دکتری دانشکده کشاورزی دانشگاه تربیت مدرس، تهران

3 استادیار دانشگاه زنجان

4 استادیار دانشگاه پیام نور

5 دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده کشاورزی دانشگاه تربیت مدرس، تهران

6 استاد دانشکده کشاورزی دانشگاه تربیت مدرس، تهران

doi
چکیده

دمای پایین به عنوان یک عامل محدودکننده تولیدات گیاهی به شمار می‌رود. در این تحقیق اثر محلول‌پاشی سالیسیلیک اسید بر برخی خصوصیات بیوشیمیایی دو رقم کلزا با درجه تحمل متفاوت به سرما مورد بررسی قرار گرفته است. سالیسیلیک اسید در 4 غلظت 0، 100، 200 و 400 میکرو‌مول در مرحله روزت دو رقم کلزا RGS (بهاره و حساس به سرما) و LICORD (پاییزه و متحمل به سرما) محلول‌پاشی گردید. نمونه‌گیری از کرت‌ها 24 ساعت بعد از محلول‌پاشی انجام شد. مقدار کلروفیل a و b، کلروفیل کل (a+b)، کاروتنوئید‌ها، آنتوسیانین، فلاونوئیدها، پراکسیداسیون لیپید‌ها‌ی غشاء، پرولین و مقدار قند اندام هوایی و ریشه مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج نشان داد که سرما (بدون کاربرد سالیسیلیک اسید) باعث کاهش مقدار کلروفیل a، b، کلروفیل کل، کاروتنوئید و قند‌های محلول در رقم حساس به سرما شد، اما رقم مقاوم دارای برتری معنی‌داری در صفات ذکر شده نسبت به رقم حساس بود. همچنین مقدار پراکسیداسیون لیپیدی غشاء اندام هوایی در رقم مقاوم نسبت به رقم حساس بیشتر بود. محلول‌پاشی سالیسیلیک اسید در غلظت‌های پایین باعث افزایش معنی‌دار مقدار کلروفیل a، b، کلروفیل کل، کاروتنوئید، آنتوسیانین، فلاونوئید، پرولین و قند‌های محلول شد. در حالی که سبب کاهش معنی‌داری در پراکسیداسیون لیپیدی غشاء در هر دو رقم گردید. افزایش رنگیزه‌های فتوسنتزی، پرولین و قند‌ها و کاهش پراکسیداسیون لیپیدی غشاء نشان‌دهنده کاهش خسارت اکسیداتیو و نقش سالیسیلیک اسید در افزایش تحمل کلزا در برابر سرما می‌باشد. در این آزمایش مشاهده شد که سالیسیلیک اسید در غلظت‌های پایین‌تر از 200 میکرومول در رفع آسیب اکسایشی نقش مؤثر دارد ولی غلظت 400 میکرومول سالیسیلیک اسید خود سبب بروز تنش در گیاه می‌گردد.