استفاده از فرآیند بازپخت با گرادیان دما-زمان برای بهبود آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فمتوثانیه‌ای در لایه‌های نازک نوری 2TiO / راستی‌آزمایی با مطالعۀ XPS

نویسندگان
بنانج, علیرضا ID 1
عادل خانی, هادی ID 2
خطیری, مهدیه ID 3
شاهرخ آبادی, حسین ID 4
پارسا, زهره ID 5

1 پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای

2 پژوهشکده چرخه سوخت هسته‌ای، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای

3 پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای

4 پژوهشکده فناوری فوتونیک و کوانتوم، پژوهشگاه علوم و فنون هسته‌ای

5 دانشگاه خوارزمی، گروه فیزیک، ایران

doi
10.47176/ijpr.25.3.22030
چکیده

در این پژوهش، اثر فرآیند بازپخت کنترل‌شده پس از لایه‌نشانی بر ویژگی‌های نوری، ترکیب شیمیایی و پیش‌بینی‌های نظری مربوط به آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فمتوثانیه‌ای در لایه‌های نازک 2TiO مورد بررسی قرار گرفته است. نشان داده شد که با به‌کارگیری فرآیند بازپخت دارای گرادیان دما-زمان، می‌توان ویژگی‌های نوری لایه‌های نشاند‌ه‌شده را به‌طور هدفمند تنظیم کرد و در نتیجه، آستانۀ آسیب ناشی از لیزر فوق‌سریع را به‌طور قابل‌توجهی بهبود بخشید. همچنین، نتایج به‌دست‌آمده با یافته‌های حاصل از تحلیل‌گر XPS نمونه‌های لایه‌نشانی‌شده در دو شرایط متفاوت بازپخت، مطابقت خوبی نشان داد.

کلیدواژه‌ها
آستانه تخریب, لیزر فمتوثانیه, باز پخت, گرادیان دما-زمان, طیف نگاری الکترونهای نوری تابش ایکس