بررسی نانومیلههای ZnO آلاییده با نیکل روی شیشه تهیه شده به روش لایهنشانی رسوب حمام شیمیایی
نویسندگان
1 گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه کوفه، عراق
2 گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه کوفه، عراق
doi
10.47176/ijpr.23.3.61487چکیده
در این مقاله، نانومیلههای (NRs) اکسید روی آلاییده با نیکل با غلظتهای (0٪، 1٪، 2٪ و 4٪) به روش لایهنشانی حمام شیمیایی در دمای (85-90) درجه سانتیگراد با موفقیت بر روی لامهای شیشهای رشد داده شد. پراش پرتو ایکس (XRD)، تصویربرداری میکروسکوپی الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM) و طیفسنجی UV-Vis برای مشخصهیابی لایهّهای تهیهشده انجام شد. اندازهگیریهای پراش پرتو ایکس نمونهها نشان داد که تمامی لایههای تهیه شده ساختار بلوری نوع ششوجهی با رشد غالب در جهت (002) و کاهش شدت قله مربوطه با افزایش آلایش نیکل دارند. تصاویر FESEM به وضوح افزایش قطر میانگین نانومیلههای ZnO را با افزایش درصد آلایش نشان میدهد. گاف نواری لایههای اولیه ZnO و نانومیلههای بدون آلایش ZnO روی شیشه به ترتیب 25/3 و 2/3 الکترونولت اندازهگیری شد. مقادیر گاف انرژی اپتیکی ZnO آلاییده با نیکل در حدود (12/3، 09/3، 3) الکترونولت با افزایش نرخ آلایش است. نتایج اندازهگیریهای اپتیکی و ساختاری برای محاسبۀ میکروکرنش (ε) لایهّهای اکسید روی آلاییده با نیکل در جهتهای (100)، (002) و (101) استفاده شد.