مشخصات غلاف در یک پلاسمای مغناطیدۀ برخوردی مشتمل بر الکترو‌ن‌های نافزونور و یون‌های حرارتی

نویسندگان

1 گروه فیزیک، دانشگاه شهید مدنی آذربایجان، تبریز

2 گروه فیزیک، دانشگاه شهید مدنی آذربایجان، تبریز

doi
10.47176/ijpr.22.1.11357
چکیده

در این مقاله، تشکیل غلاف و ویژگی‌های آن در یک پلاسمای مغناطیده برخوردی شامل الکترو‌ن‌های نافزونور و یون‌های حرارتی مورد مطالعه قرار می­گیرد. با استفاده از مدل سیالی، معیار بوهم به صورت تابعی از پارامترهای پلاسما برای سرعت یون‌ها به دست آمده و نشان داده می­شود که برخورد یون-خنثی حد (کران) بالایی برای معیار بوهم تحمیل می­کند. همچنین نشان داده می­شود که انحراف از توزیع ماکسولی مشخصه­های غلاف را تحت تأثیر قرار می­دهد. به علاوه، اثرات میدان مغناطیسی، دمای یونی، نافزونوری و بسامد برخورد یون- خنثی بر پتانسیل غلاف و چگالی یون بررسی می­شود. نتایج به دست آمده نشان می­دهند که با اعمال میدان مغناطیسی می­توان ضخامت غلاف را کنترل کرد