مهندسی گاف انرژی نانوسیم کربنی اشباع شده و مطالعه تأثیرات آلائیدگی با مولکول آمونیاک به کمک محاسبات آغازین (Ab initio)
نویسندگان
1 گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران
2 گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران
doi
10.29252/ijpr.19.2.241چکیده
در این مقاله تأثیرات اندازه و جهتگیری رشد و همچنین تأثیر آلائیدگی با مولکول آمونیاک (NH3)، بر خواص الکترونی نانوسیم کربنی با ساختار الماسی اشباع شده با هیدروژن (DNw:H) بررسی شده است. این بررسی به روش نظریه تابعی چگالی (DFT) و حل معادله کوهن- شم با رهیافت میدان خودسازگار (SCF) و با در نظر گرفتن تقریب چگالی موضعی (LDA) انجام گرفت. ریختشناسی نانوسیمها از نوع استوانهای با جهتگیری رشد [111] و سطح جانبی آنها توسط اتمهای هیدروژن، اشباع شده است. نتایج محاسبات نشان میدهد گاف نواری این نانوسیمها به علت بالا بودن نسبت سطح به حجم و به وجود آمدن ترازهای سطحی، از گاف الماس انبوهه، کوچکتر است. نتایج محاسبات ناشی از آلائیدگی مولکول آمونیاک با یکی از اتمهای کربن سطح جانبی نانوسیم الماس اشباع شده با هیدروژن در جهت [100]، منجر به کاهش گاف نواری شد به گونهای که نانوسیم به یک نیمرسانای نوع n تبدیل شد.