مطالعه پایداری و فاصله درون جداری نانولوله‌های دو جداره سیلیکون کارباید (0، 6)@( n ، 0) با روش vdW-DFT

نویسندگان

1 دانشکده فیزیک و مهندسی هسته‌ای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود

2 دانشکده فیزیک و مهندسی هسته‌ای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود

3 دانشکده فیزیک و مهندسی هسته‌ای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود

doi
10.29252/ijpr.18.4.705
چکیده

در این پژوهش با استفاده از اصول اولیه مبتنی بر نظریه تابعی چگالی با در نظر گرفتن نیروهای واندروالس، پایداری و ساختار الکترونی نانولوله‌های دوجداره سیلیکون کارباید زیگزاگ (0، n)@ (0،6) شامل 17-11 n= مورد بررسی قرارگرفته است. با محاسبه انرژی تشکیل و انرژی پیوندی هر یک از نانولوله‌‎ها، وجود یک نانولوله دو جداره با انرژی و فاصله درون جداری مطلوب به لحاظ پایداری در این دسته مشخص شده است. نتایج نشان می‌دهند نانولوله خارجی (13،0) مطلوب‌ترین مزدوج برای نانولوله داخلی (6،0) با فاصله درون جداری حدود Å 53/3 می‌باشد. محاسبات ساختاری نشان می‌دهند که تمام نانولوله‌‎های مورد بررسی نیم‌رسانا هستند وگاف‌های انرژی آنها از تک جداره به دوجداره کاهش می‌یابند. همچنین با افزایش قطر نانولوله، گاف نواری آن افزایش می‌یابد و در پایدارترین نانولوله دو جداره مقدار آن حدود 216/0 الکترون ولت می‌باشد.