مطالعه پایداری و فاصله درون جداری نانولولههای دو جداره سیلیکون کارباید (0، 6)@( n ، 0) با روش vdW-DFT
نویسندگان
1 دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
2 دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
3 دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
doi
10.29252/ijpr.18.4.705چکیده
در این پژوهش با استفاده از اصول اولیه مبتنی بر نظریه تابعی چگالی با در نظر گرفتن نیروهای واندروالس، پایداری و ساختار الکترونی نانولولههای دوجداره سیلیکون کارباید زیگزاگ (0، n)@ (0،6) شامل 17-11 n= مورد بررسی قرارگرفته است. با محاسبه انرژی تشکیل و انرژی پیوندی هر یک از نانولولهها، وجود یک نانولوله دو جداره با انرژی و فاصله درون جداری مطلوب به لحاظ پایداری در این دسته مشخص شده است. نتایج نشان میدهند نانولوله خارجی (13،0) مطلوبترین مزدوج برای نانولوله داخلی (6،0) با فاصله درون جداری حدود Å 53/3 میباشد. محاسبات ساختاری نشان میدهند که تمام نانولولههای مورد بررسی نیمرسانا هستند وگافهای انرژی آنها از تک جداره به دوجداره کاهش مییابند. همچنین با افزایش قطر نانولوله، گاف نواری آن افزایش مییابد و در پایدارترین نانولوله دو جداره مقدار آن حدود 216/0 الکترون ولت میباشد.