بررسی اثر پالس بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه‌های نازک اکسید مولیبدن در ‌لایه‌نشانی به روش کندوپاش مغناطیسی پالس قدرت بالا (HiPIMS)

نویسندگان

1 دانشکده علوم پایه، دانشگاه ولایت، ایرانشهر

doi
10.29252/ijpr.18.3.427
چکیده

در این تحقیق لایه­ های نازک اکسید مولیبدن به روش کندوپاش مغناطیسی پالس قدرت بالا در پالس ­های مختلف با طول 60، 90، 120، 150 و 180 میکروثانیه بر روی زیرلایه ­های شیشه ­ای در ترکیبی از گازهای واکنشی و غیرواکنشی با نسبت O2/Ar= 0.66 ‌لایه‌نشانی شده‌اند و مورد مطالعه ساختاری و اپتیکی قرار گرفته ­اند. ترکیب شیمیایی این اکسیدهای فلزی با آنالیز طیف­ سنجی فوتوالکترون پرتوی‌ ایکس (XPS) تعیین و به صوررت MoOx با x های مختلف مشخص شدند. با بررسی خواص اپتیکی مشخص گردید که نقصان اکسیژن در پالس­ه ای طولانی­ تر موجب کاهش متوسط عبور اپتیکی و همچنین کاهش گاف نوار اپتیکی لایه ­ها می­شود.