اثر شار اکسیژن بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم، لایهنشانی شده با روش تبخیر باریکه الکترونی
نویسندگان
1 دانشگاه بین المللی امام خمینی(ره)، قزوین
2 مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران، تهران
doi
10.18869/acadpub.ijpr.15.4.435چکیده
در این مقاله اثر میزان شار اکسیژن هنگام لایهنشانی بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم بررسی شده است. لایههای توسط تفنگ الکترونی بر روی زیرلایه شیشهای در شارهای متفاوت اکسیژن انباشته شدهاند. درجه حرارت زیرلایه در زمان لایهنشانی 250 درجه سلسیوس ثابت نگه داشته میشود. طیف عبوری نمونهها با استفاده از اسپکتروفوتومتر در محدوده طول موجی اندازهگیری شدهاند. سپس با استفاده از نقاط بهینه (بیشینه یا کمینه) منحنی عبور، ضریب شکست و ضریب خاموشی نمونهها محاسبه میشوند. نتایج نشان میدهد که با کاهش شار اکسیژن، در حالی که نرخ تبخیر ثابت نگه داشته شده است، ضریب شکست لایههای کاهش مییابد. از طرف دیگر، کاهش شار اکسیژن باعث ایجاد مقدار کمی جذب در لایه میشود.
