ایجاد میکروساختارهای مختلف روی فیلم پلی‌اترسولفون در اثر تابش لیزر XeCl

نویسندگان

1 پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران

2 دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، تهران

3 پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی، تهران

4 پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران

5 پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران

doi
چکیده

پارامترهای تابش لیزر به‌ویژه شاریدگی و تعداد پالس در ایجاد میکروساختارهای مختلف روی سطوح پلیمری در اثر تابش و در نتیجه بهبود خواص سطح در استفاده از آن در پزشکی، الکترونیک و دیگر صنایع اهمیت قابل ملاحظه‌ای دارد. اطلاع از محدوده‌های مختلف شارش و تعداد پالس در ایجاد ساختارهای مختلف از موارد مهم در تعیین اثرات مطلوب و یا ناخواسته تابش روی سطح به‌منظور استفاده از آن در کاربردهای مختلف است. در این مقاله فیلم پلی‌اترسولفون با لیزر XeCl در شارش‌های مختلف و بالای آستانه کندگی مورد تابش و ساختارهای مختلف ایجاد شده در اثر برهم‌کنش در شارش و تعداد پالس متفاوت مورد بررسی قرار گرفت