فهرست نشریات علمی دسترسی آزاد ایران

  در این تحقیق، لایه‌های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ITO ) در ضخامت‌های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه‌ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه‌ها 100 ، 150 و 250 نانومتر می‌باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح ( RMS ) w و طول همبستگی عرضی x کاهش پیدا می‌کند. همچنین، نمای ناهمواری α و نمای رشد β ، به ترتیب برابر α =0.72±0.01 و β=0.11±0.01 ، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه‌ها را می‏توان به صورت ترکیبی از مدل‌های خطی EW و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.