اثر محلول‌پاشی نانوسیلیکون بر صفات مورفولوژیکی، عملکرد و تعدیل تنش خشکی در گیاه کینوا (Chenopodium quinoa L.)

نویسندگان

1 عضو هیات علمی و مدیر گروه آموزشی منابع طبیعی، آب و خاک مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس

2 استادیار مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس، سازمان تحقیقات، آموزش و ترویج کشاورزی، شیراز، ایران

3 استادیار مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس، سازمان تحقیقات، آموزش و ترویج کشاورزی، شیراز، ایران

doi
10.22034/saps.2023.57081.3064
چکیده

اهداف: پژوهش حاضر با هدف بررسی اثر نانوسیلیکون برعملکرد و کاهش اثر ناشی از تنش آبی در گیاه کینوا اجراء شد. مواد و روش‌ها: آزمایش به‌صورت کرت‌های خرد شده بر پایه بلوک‌های کامل تصادفی در سه تکرار در مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس اجراء گردید. تیمارها شامل رژیم‌های آبیاری در چهار دور 7، 14، 21 و 28 روز و محلول‌پاشی نانوسیلیکون در سطوح صفر، 30 و 60 میلی‌گرم در لیتر درنظر گرفته شد. یافته‌ها: اعمال تنش رطوبتی متوسط (دور آبیاری 21 روز) و شدید (دور آبیاری 28 روز) در مقایسه با عدم تنش (دور آبیاری 7 روز) سبب کاهش 93/5 و 65/24 درصد در طول پانیکول، 77/8 و 81/27 درصد در عرض پانیکول، 14/5 و 44/29 درصد در تعداد پانیکول، 05/12 و 87/23 درصد در وزن کل اندام هوایی، 73/24 و 95/54 درصد در عملکرد دانه، 11/26 و 94/55 درصد در وزن هزار دانه و 53/14 و 16/41 درصد در شاخص برداشت گیاه گردید. تنش‌های رطوبتی فوق سبب 125 و 84/78 درصد افزایش در بهره‌وری مصرف آب شد. همچنین محلول‌پاشی نانوسیلیکون تأثیر معنی-داری بر شاخص‌های رشد گیاه کینوا دارد بطوری که حداکثر ارتفاع گیاه، طول, عرض و تعداد پانیکول، وزن کل اندام هوایی، عملکرد دانه و بهره‌وری مصرف آب در محلول‌پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی‌گرم در لیتر مشاهده گردید. نتیجه‌گیری: محلول‌پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی‌گرم در لیتر سبب پایین آمدن اثرات منفی تنش‌های رطوبتی در شرایط خشکی (دور آبیاری 21 و 28 روز) در گیاه کینوا می‌گردد.