تأثیر محلول‌پاشی با اسید سالیسیلیک بر کاهش اثرات کم آبی در گیاه ریحان مقدس (Ocimum sanctum)

نویسندگان

1 گروه مهندسی علوم باغبانی. دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی. دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره). قزوین. ایران

2 گروه مهندسی علوم باغبانی. دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی. دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) قزوین. ایران

doi
10.22059/ijhs.2023.353738.2084
چکیده

کمبود آب یکی از اساسی‌‌ترین مشکلات سیستم‌های کشاورزی در سراسر جهان است که بر عملکرد و کیفیت محصول تأثیر می‌گذارد. استفاده از ترکیباتی مانند اسید سالیسیلیک می‌تواند مقاومت گیاه را در برابر تنش‌های محیطی بهبود بخشد. آزمایش حاضر به منظور بررسی تأثیر سطوح مختلف آبیاری و کاربرد اسید سالیسیلیک بر صفات کمی و کیفی ریحان مقدس (Ocimm sanctum) ، به صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملا تصادفی در سه تکرار انجام گرفت. تیمارهای آزمایش شامل تنش خشکی در سه سطح (100، 70 و 50 درصد ظرفیت زراعی) و محلول‌پاشی با اسید سالیسیلیک در سه سطح (0، 75/0 و 5/1 میلی‌مولار) بود. نتایج نشان داد که کمبود آب سبب کاهش معنی‌دار شاخص‌های رشدی گیاه، محتوای نسبی آب برگ و مقدار رنگدانه‌های فتوسنتزی گردید، در‌حالی که محلول‌پاشی با اسید سالیسیلیک باعث افزایش پارامترهای مذکور شد. تنش خشکی و محلول‌پاشی با اسید سالیسیلیک، باعث افزایش محتوای پرولین، محتوای تام ترکیبات فنولی و فلاونوئیدی، و مهار رادیکالهای آزاد DPPH شد. علاوه‌بر‌این، درصد اسانس تحت تنش خشکی افزایش یافت. همچنین، در گیاهانی که با اسید سالیسیلیک محلول‌پاشی شده بودند ، درصد اسانس افزایش معنی‌داری را نسبت به تیمار شاهد نشان داد. با کاهش آب آبیاری، از درصد اوژنول اسانس کاسته شد، اما محلول‌پاشی با غلظت بالای اسید سالیسیلیک سبب افزایش این ترکیب گردید. تیمارهای آزمایشی بر درصد 1و 8-سینئول و استراگول نیز تاثیر داشتند. بنابراین، استفاده از مقدار مناسب اسید سالیسیلیک را می‌توان به عنوان یک راهکار عملی و ساده برای افزایش کیفیت و کمیت پیکر رویشی ریحان مقدس، در مناطق خشک و نیمه خشک در نظر گرفت.