کاهش سمیت رزین‌ آکریلیک با حذف مونومرهای آزاد باقی‌مانده جهت توسعه جوهر رسانای نقره با پایداری بهبودیافته

نویسندگان

1 گروه محیط زیست و رنگ، پژوهشگاه رنگ، تهران، ایران، صندوق پستی: 654-16765

doi
10.30509/jcst.2025.167617.1268
چکیده

هدف این مطالعه، طراحی رزین آکریلیک  کم‌سمیت برای ساخت جوهر رسانای نقره مورد استفاده در چاپ مدارهای رسانا است. رزین آکریلیک   کربوکسیله- هیدروکسیله بر پایه مونومرهای متیل متاکریلات، بوتیل اکریلات، آکریلیک  اسید و 2-هیدروکسی اتیل متاکریلات از طریق بسپارش رادیکالی آزاد به صورت محلولی سنتز شد. خصوصیات رزین نظیر دمای گذار شیشه‌ای (Tg) °C 40، عدد اسیدی 8.2، عدد هیدروکسیلی (mgKOH/g) 6/56، با استفاده از آزمون DSC، FTIR و تیتراسیون تأیید گردید. همچنین عدم سمیت ناشی از حضور مونومر آزاد توسط آزمون‌های کروماتوگرافی گازی، FTIR و درصد جامد اثبات گردید. جوهر‌های رسانا محتوی 52-74 درصد نانوذرات نقره (50-10 نانومتر)، با رزین به دست آمده تولید و با روش اسکرین چاپ شدند. جوهر Ag-59 % محتوی 59 درصد نقره در حالت خشک با داشتن مقاومت الکتریکی (Ω.cm) 7/0، پایداری عالی (بدون جدایش طی 60 روز)، چسبندگی B 5، گرانروی بهینه و دانه‌بندی زیر 10 میکرون، به‌عنوان جوهر بهینه انتخاب شد. نتایج SEM-EDX توزیع یکنواخت نانوذرات نقره در جوهر را تأیید کرد. این رزین آکریلیک می‌تواند پایه‌ای مؤثر برای تولید جوهر رسانای پایدار و کم‌سمیت با عملکرد الکتریکی مطلوب جهت جایگزینی قلع باشد.