اثرات نمک های اکسید روی و شرایط مختلف رشد بر نانومیله ها و پارامترهای آشکارساز فرابنفش فوتودیودی

doi
10.22034/issst.2025.2070506.1661
چکیده

پارامترهای مختلفی که می‌توانند بر جریان تاریکی و حساسیت آشکارسازهای فرابنفش فوتودیودی نانومیله‌های اکسید روی اثرگذار باشند در این کار بررسی می-گردد. ساختار این آشکارساز مبتنی بر پیوندهای ناهمگون نانومیله‌های اکسید روی و سیلیکون نوع p است. اثر تغییر شرایط رشد، نمک‌های اکسید روی و مشخصات سطح بر جریان تاریکی و حساسیت آشکارساز تحلیل گردید. برای مشاهده و بررسی بیشتر از آنالیزهای مختلفی مانند SEM، PL و مشخصه‌های I-V استفاده شد. در این کار نیز افزاره‌ای با کوچک‌ترین قطر، نمونه بهینه از نظر دارا بودن حداقل جریان تاریکی (183/1 میکروآمپر) و حداکثر حساسیت (13/45) تعیین شد. از طرفی نمونه S3 با بیشترین قطر (400 نانومتر) و سطح خاص آن سبب شد تا جریان تاریکی بر خلاف انتظار به شدت کاهش یابد و به مقدار 41/25 میکروآمپر برسد و در نتیجه حساسیت آن به مقدار 01/38 رسید که در بین نمونه‌ها پس از نمونه S1 بیشینه مقدار حساسیت را داراست. کاهش محسوس جریان تاریکی و افزایش چشمگیر حساسیت آشکارساز تنها با تغییر مورفولوژی ساختار و انتخاب نمک روی مناسب به دست آمد.