ساخت چشمه پلاسمای کاتد داغ برای لایهنشانی به روش اسپاترینگ توسط پرتو یون
نویسندگان
doi
چکیده
در این پژوهش یک نمونه چشمه پلاسمای کاتد داغ برای یک چشمه پرتو یون پهن به قطر 5 سانتیمتر طراحی و ساخته شد. این چشمه یون قابل استفاده در لایهنشانی به روش کندوپاش است. وضعیت تشکیل پلاسما در خلأ بالا (محدوه 3-10 تا 4-10میلیبار) و با اعمال میدان مغناطیسی توسط مجموعه آهنرباهای دائمی مورد مطالعه قرار گرفت. تأثیر پارامترهای کنترلی مختلف مانند فشار کار، پتانسیل تخلیه الکتریکی و جریان چشمه الکترون (رشته تنگستن) بر چگالی پلاسما بررسی گردید. با اعمال ولتاژ تخلیه الکتریکی 57 ولت و میدان مغناطیسی حدود 200 گاؤس و عبور جریان 18 آمپر از رشته کاتد، مقدار بیشینه 130 میلیآمپر برای جریان پلاسما در فشار 4-10×2/1 میلیبار اندازهگیری شد.