بهبود رفتار ترشوندگی سل حاوی تنگستن برای تهیه لایه های نازک اکسید تنگستن
نویسندگان
1 پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادیها، کرج، ایران
2 پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادیها، کرج، ایران
3 پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادیها، کرج، ایران
4 پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادیها، کرج، ایران
doi
10.30501/jamt.2635.70283چکیده
در این کار لایه های اکسید تنگستن بر روی الکترود شفاف اکسیدی و همچنین شیشه نوری با استفاده از روش فروبری در سُلهای پایه آبی و الکلی آماده و سپس در 400 درجه عملیات حرارتی گردیدند. ترشوندگی لایههای مورد استفاده توسط سُلهای آماده شده نیز با مشاهدات چشمی و تصویربرداری بررسی شد. لایه های آماده شده با میکروسکوپ الکترونی روبشی، پراش اشعه X و همچنین ولتامتری چرخ های در محلول اسیدسولفوریک مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان می دهد که زیرلایه های مورد استفاده توسط سُلهای آبی آماده شده، ترشوندگی نامطلوبی دارند در حالی که سلهای پایه آبی - الکلی به خوبی دو زیر لایه مورد استفاده را تر میکنند. ترشوندگی زیر لایه حین خشک کردن در صورت استفاده از اتانول در سلهای مخلوط آبی - الکلی کاهش مییابد این مشکل با استفاده از یک الکل سنگین (لوریک الکل) مرتفع گردید که این کار به عنوان روش بهینه تهیه سل برای لایه نشانی اکسید تنگستن با استفاده ازاسید هیدروکسی تنگستیک تهیه شده از پیشماده سدیم تنگستات تعیین گردید. نتایج نشان میدهد که حضور لوریک الکل اندازه دانه ها و بلورکها را از حدود 40 نانومتر تا زیر 20 نانومتر کاهش میدهد و فاز لایه نیز از مونوکلینیک به تریکلینیک تبدیل میشود. داده های ولتامتری چرخشی نیز خواص بهبود یافته الکتروکرمیک لایه اکسید تنگستن آماده شده را تایید می کند.