تاثیر دمای حمام شیمیائی بر تغییرات نانو ساختار لایه نازک CdS تهیه شده به روش نشست شیمیایی در حمام

نویسندگان

1 مربی، پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

2 استادیار، پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

3 کارشناسی ارشد، پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

4 استادیار، پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

5 دانشیار، پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

doi
10.30501/jamt.2635.70265
چکیده

در این کار تحقیقاتی به منظور ایجاد شرایط بهینه در تهیه لایه ­های نازک CdS به روش نشست شیمیایی در حمام (CBD) ، تأثیر دمای حمام شیمیائی بر ساختار لایه ­­های تهیه شده مورد مطالعه قرار گرفت. فرآیند لایه نشانی با استفاده از ترکیباتی چون CdCl2 ،  NH4NO3 و تیو اوره CS(NH2)، تحت pH  و زمان نشست ثابت، استفاده شد. بررسی ­ها نشان داد، تحت شرایط آزمایشی مورد استفاده، ضمن تهیه لایه هائی تقریبا یکنواخت از نظر اندازه و شکل ذرات، نتایج حاکی از وابستگی ساختار لایه ­های تهیه شده به دمای محیط واکنش از C°60 به C°75 می ­باشد، بطوری که با افزایش دما ازحالت آمورف به سمت نانو کریستالین سوق پیدا می­کند. نتایج نشان داد که لایه نازک تهیه شده در دمای C°75 از خواص نوری مناسب به لحاظ درصد عبور نور مرئی و مقدار  گاف انرژی برخوردار است.