سنتز فوتوکاتالیست تنگستات نیکل نانو ساختار از روش پلیول
نویسندگان
1 کارشناسی ارشد، پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادی ها
2 دانشیار، پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادی ها
3 کارشناس ارشد، پژوهشگاه مواد و انرژی، پژوهشکده نیمه هادی ها
doi
10.30501/jamt.2010.70139چکیده
در این تحقیق نانو بلور های NiWO4 در محیط پلیمری و در دمای پایین برای اولین بار سنتز شدند. واکنش تشکیل بین نیکل کلرید و تنگستات سدیم در دمای 180 درجه سانتیگراد و به مدت 10 ساعت در اتیلن گلیکول انجام شد. ذرات بلورینه شده تنگستات نیکل پس از عملیات حرارتی در 500 درجه سانتیگراد به مدت 5 ساعت حاصل گردیدند. آنالیز حرارتی (TG/DTA) برای بررسی رفتار این ماده تحت حرارت انجام شد. نتایج آنالیز پراش اشعه ایکس (XRD) نیز نشان داد که بهترین دمای کلسیناسیون 500 درجه سانتیگراد بوده و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) و روبشی (SEM) تصاویر نانو ذرات تنگستات نیکل تهیه شدند. از روش ریتولد، اندازه متوسط بلورهای NiWO4 17 نانو متر محاسبه گردید و متوسط اندازه ذرات 50 نانو متر نیز از تصاویر TEM تخمین زده شد. بیشترین سطح ویژه برای نمونه عملیات حرارتی شده در 100 درجه سانتیگراد با استفاده از BET، 105 متر مربع بر گرم بدست آمد. مطالعه جذب طیف نوری در محدوده طول موج 350 تا500 نانو متر نشان داد که گاف انرژی این ماده 41/3 الکترون ولت و 25/3 الکترون ولت به ترتیب برای قبل و بعد از کلسینه شدن است. جهت بررسی خواص فوتو کاتالیستی از متیلن بلو استفاده گردید و محلول در معرض تابش نور UV با توان 12 وات به مدت 1، 2، 3 و 4 ساعت قرار گرفت. خاصیت رنگ زدایی و فوتوکاتالیستی این ماده مطلوب بود.