بررسی اثر شدت و جهت گیری میدان مغناطیسی خارجی در توزیع چگالی الکترونهای پلاسمای مغناطیده تحت تاثیر پالس لیز و معرفی پارامترهای تعیین کننده دی الکتریک پلاسما

نویسندگان

1 دانشگاه ارومیه

doi
10.22034/strap.2024.17951
چکیده

در این مقاله اثر میدان مغناطیسی چرخشی در توزیع چگالی الکترون های پلاسمای مغناطیده  بررسی شده است.اندرکنش پالس لیزر پرتوان ناهمگنی محیط می شود بنابراین الکترون های پلاسما تغییر می کند و شکل نا همگن به خود می رسد با استفاده از معادله انتقال در پلاسما و معادله پیوستگی اثر یک میدان مغناطیسی چرخشی را به بررسی قرار می دهد و تغییر می کند. توزیع چگالی در اثر چرخش میدان مغناطیسی رادریافت ایم.نتایج به دست آمده نشان می دهد میدان مغناطیسی چرخشی باعث پخش چگالی به صورت نوسانی می شود که میدان مغناطیسی قوی در ارتباط با چگالی الکترون پلاسما را که تحت تأثیر میدان الکتریکی اعمالی قرار می گیرد را تغییر می دهد.بنابراین با تعاریف تغییرات می تواند چگالی را کنترل کند و در ادامه عوامل وابسته به چگالی پلاسما را نیز کنترل کند یکی ازموارد وابسته به چگالی پلاسما ضریب شکست وابسته به شدت می باشد که در پدیده های غیر خطی اپتیکی نقش اساسی را ایفا می کند

کلیدواژه‌ها