حذف وتعیین سرب (II) با استفاده از دیسک‌های نانو مغناطیسی اصلاح شده اکتادسیل سیلیکا با دی اکتیل فتالات با روش اسپکتروسکوپی جذب اتمی

نویسندگان

1

2

3 دانشگاه فردوسی مشهد

doi
چکیده

در این مطالعه فرآیندی سریع و آسان به منظور حذف و تعیین کمی از یون های سرب (II) با استفاده از دیسک‌های نانومغناطیسی اکتادسیل سیلیکا که توسط نانوذرات اکسید آهن همراه با دی اکتیل فتالات اصلاح شده و به صورت مغناطیسی درآمده است وبا روش اسپکتروسکوپی جذب اتمی انجام شده است. این فرایند با ایجاد یک کمپلکس در سطح دیسک ENVI-18 انجام شده است و برای استخراج گونه‌های جذب شده در سطح دیسک حداقل مقدار حلال های آلی استفاده شده است. شویش دیسک‌ها در این روش قابل توجه و کمی است. در این تحقیق اثرات یون مزاحم، pH، مقدار لیگاند، حلال شویشی مناسب و سرعت جریان نمونه نیز مورد مطالعه قرار گرفت. پس از انجام فاکتورهای بهینه‌سازی به منظور جذب، حجم حلال تا حدود 900 میلی لیتر بدست آمد. بیشترین ظرفیت جذبی برای جاذب مطالعه شده به منظور جذب یون‌های سرب (II) 370 میکروگرم بدست آمده است. حد تشخیص برای این روش با مقداری قابل قبول برای یون‌های سرب (II) بدست آمده است. این روش برای استخراج و بازیابی سرب (II) در نمونه‌های مختلف آبی استفاده شد.