فهرست نشریات علمی دسترسی آزاد ایران

در این پژوهش، پوشش تبدیلی نانوسرامیکی بر پایه اسید هگزافلوئورو زیرکونیک عاری از نمک‌های فسفات، بررسی شد. تأثیر مهم‌ترین عوامل فرآیندی از جمله pH محلول، زمان و دمای غوطه‌وری بر مقاومت به خوردگی و ریخت‌شناسی این نوع پوشش ارزیابی گردید. رفتار مقاومت به خوردگی پوشش تبدیلی نانوسرامیک بر روی زمینه فولادی در pH های مختلف محلول و دما و زمان‌های مختلف غوطه‌وری به کمک آزمون پلاریزاسیون مورد مطالعه قرار گرفت. آزمون پلاریزاسیون نشان داد در زمان غوطه‌وری 60 ثانیه، دمای غوطه‌وری 20 درجه سانتی‌گراد و 5=pH بهترین شرایط حاصل می‌گردد. ریخت‌شناسی سطح توسط میکروسکوپ نیرو اتمی (AFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) ارزیابی شد. تأثیر pH محلول بر ریخت‌شناسی سطح پوشش تبدیلی توسط میکروسکوپ نیرو اتمی بررسی شد و نتایج نشان داد پوشش تبدیلی به دست آمده در 5=pH ، یکنواخت‌تر و حاوی تجمعات ریزتری در مقایسه با 4.25=pH است. در نهایت نیز از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص گردید که با افزایش دما، اندازه ذرات و همچنین احتمال تشکیل ترک‌های ریز در پوشش تبدیلی بیشتر می‌شود و اندازه ذرات موجود در سطح پوشش به دست آمده در حدود 40 تا 60 نانومتر تخمین زده شدند.