مهندسی کنترل شده ساختار و گاف نواری در نانوساختارهای سولفید تنگستن از طریق پلاسما
نویسندگان
1 دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره)
2 دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره)
3 دانشگاه امیرکبیر
4 دانشگاه صنعتی امیر کبیر
doi
چکیده
چکیده در این پژوهش، نانوساختارهای دوبعدی سولفید تنگستن )WS2( به روش رسوبدهی بخار شیمیایی گرمایی (TCVD) در دمای °C 1100 ، با گاز حامل آرگون به شار حجمی استاندارد sccm ۱۵۰ ، بر روی زیرلایههای سیلیکونی در یک کوره سه ناحیهای و طی ۶۰ دقیقه رشد داده شدند. نمونههای حاصل به مدت ۱۰ دقیقه ...