بررسی اثر فشار بر روی ویژگی های اپتیکی، مورفولوژی و ساختاری لایه سولفید روی ZnS تولید شده به روش کند و پاش مغناطیسی
نویسندگان
1 گروه فیزیک دانشکده علوم ، دانشگاه بین المللی امام خمینی، قزوین
2 گروه فیزیک دانشکده علوم ، دانشگاه بین المللی امام خمینی، قزوین
doi
10.22034/ns.2025.2063264.1392چکیده
در این مقاله به منظور بهینه سازی لایه سولفید روی ZnS ، سه نمونه لایه ZnS ، با دستگاه کند و پاش مغناطیسی Magnetron Sputtering بر روی زیرلایه شیشه اپتیکی با نام تجاری BK7 پوشش داده شده است. اثر فشار بر روی خواص اپتیکی، مورفولوژی و ساختاری لایه مطالعه شده است. گاز آرگون برای تولید پلاسما و فرآیند کند و پاش استفاده شده است. به کمک نرم افزار PRISA ثابتهای اپتیکی شامل ضریب شکست و ضریب خاموشی لایه ZnS ، ضخامت لایه و شکاف نوار Band Gap محاسبه شدند. ضریب شکست لایهها در ناحیه طول موجی مرئی به طور متوسط n=1.3 است و ضریب خاموشی نیز در همان محدوده طول موجی k=1-4 است. بعلاوه نتابج نشان میدهند که ثابتهای اپتیکی لایههای ZnS و شکاف نوار که در فشارهای متفاوت تهیه شدند تفاوت محسوسی با یکدیگر ندارند. به عبارت دیگر پارامتر فشار عامل موثری در تعیین ویژگیهای اپتیکی لایه ZnS نیست. از طرف دیگر، فشار، در نرخ رشد لایه Deposition rate اثر قابل ملاحظه ای دارد و نتایج نشان می دهند برای داشتن ماکزیمم نرخ رشد، یک فشار بهینه باید وجود داشته باشد.