بررسی اثر پایداری دمای زیرلایه بر کیفیت لایههای روی اکسید در روش لایه نشانی لیزری
نویسندگان
1 گروه فیزیک، دانشکده فیزیک و شیمی، دانشگاه الزهرا، تهران، تهران
2 گروه الکترونیک، دانشکده الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، تهران، تهران
3 گروه فیزیک، دانشکده فیزیک و شیمی، دانشگاه الزهرا، تهران، تهران
4 گروه فیزیک، دانشکده فیزیک و شیمی، دانشگاه الزهرا، تهران، تهران
5 گروه الکترونیک، دانشکده الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، تهران، تهران
doi
چکیده
روی اکسید ( )ZnOیکی از پرکاربردترین اکسیدهای فلزی نیمرساناست که به دلیل داشتن ویژگیهای منحصر به فرد،کاربرد فراوانی در ساخ توسایل نوری دارد. ویژگی لایههای تهیه شده از این ماده به صورت مستقیم افزون بر شرایط پرتودهی، به شرایط لایهنشانی آن نیز بستگی دارد. در این مقاله، با هدف بررسی ثبات شرایط ترمودینامیکی بر کیفیت انباشت لایههای ZnOبه روش لایهنشانی لیزر پالسی، مشخصههای حجم و فشار را در حین لایهنشانی ثابت در نظر گرفتیم و با سرد شدن تدریجی زیرلایه، عامل دما را بهعنوان عامل موثر در تغییر شرایط ترمودینامیکی بررسی کردیم. نتایج بدست آمده از بررسی طیف جذب مرئی- فرابنفش و تصاویر میکروسکوپی و SEMنمونهها حاکی از آن است که کیفیت لایهها در شرایط ترمودینامیکی پایدار به صورت موثری بهبود مییابد
